W ramach naszej witryny stosujemy pliki cookies w celu świadczenia Państwu usług na najwyższym poziomie, w tym w sposób dostosowany do indywidualnych potrzeb. Korzystanie z witryny bez zmiany ustawień dotyczących cookies oznacza, że pliki opisane w Polityce Prywatności będą zamieszczane na Państwa urządzeniu końcowym. W każdej chwili możecie Państwo zmienić ustawienia dotyczące plików cookies w przeglądarce internetowej. Akceptacja niezbędnych plików cookies jest wymagana do prawidłowego działania witryny. Szczegółowe informacje znajdą Państwo w zakładce POLITYKA PRYWATNOŚCI.

Praktykant/stażysta (K/M) w Centrum Technologii Galwanotechnicznych

WYNAGRODZENIE :
WYMAGANIA OBOWIĄZKOWE:

– status studenta lub absolwenta o profilu: inżynieria materiałowa, chemia, technologia chemiczna, inżynieria chemiczna i procesowa.
– kompetencje analityczne,
– chęć poznania nowych obszarów badawczych,
– znajomość języka angielskiego w stopniu komunikatywnym.

OPIS STANOWISKA-
NAZWA INSTYTUTU
  • Łukasiewicz – Warszawski Instytut Technologiczny
CODZIENNE ZADANIA:

– wsparcie Grupy Nowych Technologii Galwanotechnicznych oraz Grupy Zastosowań Galwanotechniki i Odzysku Materiałowego
w wytwarzaniu powłok metalowych i kompozytowych metodami chemicznymi i elektrochemicznymi,
– proste prace przy badaniach właściwości powłok galwanicznych.

BENEFITY:

Termin odbycia praktyk:
– 07-09.2026 r.

Forma zatrudnienia:
– praktyki i staże 

 

aplikuj

Błąd: Brak formularza kontaktowego.

This will close in 0 seconds

This will close in 0 seconds